Ledia 7

Ledia 7

针对FC-CSP等制程各种半导体封装用基板最适合的直接成像系统

Ledia系列中高曝光品质

由于采用了新光学元件,与传统的Ledia 6F相比,光斑直径小,解析度更高。 Ledia 系列中,能曝光更精细的最小10μm线宽。只需Ledia 7F一台,可以兼顾 电路和SR图形曝光,是一款通用性很高的设备。

纤细清晰的线宽成为现实

正因为光斑间距小,才能曝光多层板所需的纤细清晰线宽。 无论是面向未来的技术开发,还是作为量产机,本机都是 一台能够长期与您相伴的设备。

产品规格

Model

LI-7F-M

LI-7F-P

(For SR Pattern)

LI-7S-S

(For SR Pattern)

LI-7S-L

光源

UV-LED

365/385/405nm

UV-LED

365/385/405nm

UV-LED

365/385/405nm

UV-LED

365/385/405nm

镜头数

5 or 6

5 or 6

5 or 6

6

最大

基板

尺寸

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

5 heads:

540(W)×661(L)mm

6 heads:

610(W)×661(L)mm

6 heads:

661(W)×813(L)mm

最小

线宽

(L/S)

10μm

10μm

10μm

10μm

设备

尺寸

1,830(W)

2,585(D)

2,085(H)

mm

3,200(W)

2,900(D)

2,085(H)

mm

3,200(W)

2,900(D)

2,085(H)

mm

1,830(W)

2,935(D)

2,085(H)

mm

重量

2,085kg

3,800kg

3,800kg

2,800kg