Ledia 7
针对FC-CSP等制程各种半导体封装用基板最适合的直接成像系统
Ledia系列中高曝光品质
由于采用了新光学元件,与传统的Ledia 6F相比,光斑直径小,解析度更高。 Ledia 系列中,能曝光更精细的最小10μm线宽。只需Ledia 7F一台,可以兼顾 电路和SR图形曝光,是一款通用性很高的设备。
纤细清晰的线宽成为现实
正因为光斑间距小,才能曝光多层板所需的纤细清晰线宽。 无论是面向未来的技术开发,还是作为量产机,本机都是 一台能够长期与您相伴的设备。
产品规格
Model |
LI-7F-M |
LI-7F-P (For SR Pattern) |
LI-7S-S (For SR Pattern) |
LI-7S-L |
---|---|---|---|---|
光源 |
UV-LED 365/385/405nm |
UV-LED 365/385/405nm |
UV-LED 365/385/405nm |
UV-LED 365/385/405nm |
镜头数 |
5 or 6 |
5 or 6 |
5 or 6 |
6 |
最大 基板 尺寸 |
5 heads: 540(W)×661(L)mm 6 heads: 610(W)×661(L)mm |
5 heads: 540(W)×661(L)mm 6 heads: 610(W)×661(L)mm |
5 heads: 540(W)×661(L)mm 6 heads: 610(W)×661(L)mm |
6 heads: 661(W)×813(L)mm |
最小 线宽 (L/S) |
10μm |
10μm |
10μm |
10μm |
设备 尺寸 |
1,830(W) 2,585(D) 2,085(H) mm |
3,200(W) 2,900(D) 2,085(H) mm |
3,200(W) 2,900(D) 2,085(H) mm |
1,830(W) 2,935(D) 2,085(H) mm |
重量 |
2,085kg |
3,800kg |
3,800kg |
2,800kg |